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论文编号: |
O120090109 |
第一作者所在部门: |
705组 |
中文论文题目: |
石墨基体电泳沉积法制备SiC涂层
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英文论文题目: |
SiC Coating by Electrophoretic Deposition on Graphite Substrate
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论文题目英文: |
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作者: |
赵文涛 史景利 郭全贵 宋进仁 翟更太 刘 朗
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论文出处: |
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刊物名称: |
宇航材料工艺
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年: |
2009
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卷: |
42 |
期: |
3 |
页: |
30-33 |
联系作者: |
赵文涛 |
收录类别: |
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影响因子: |
0.434
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摘要: |
过去,对电泳沉积SiC涂层的研究大多局限于沉积机理方面,对涂层的制备技术方面鲜有报道。为此,采用电泳沉积法在石墨基体上涂敷纳米SiC,分析了沉积时间、电压、粘结剂、添加剂量、固含量和沉积参数对纳米SiC沉积状况的影响,得出了电泳沉积制备SiC涂层的优化参数:电压120v,SiC纳米粉末固含量30g/L,PVB15g/L,正丁醇1.0%(体积分数),时间3min。所制备样品经烧结处理即为石墨的SiC涂层,涂层经氧化后能形成致密的SiO2保护膜,具有优良的抗氧化性能。 |
英文摘要: |
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外单位作者单位: |
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备注: |
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