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论文编号: 122214O120110070
第一作者所在部门: 610组
中文论文题目: 第一性原理计算硅浓度对硅掺杂锐钛矿二氧化钛的影响
英文论文题目: Investigation of the silicon concentration effect on Si-doped anatase TiO2 by first-principles calculation
论文题目英文:
作者: 徐耀
论文出处:
刊物名称: Journal of Solid State Chemistry
: 2011
: 184
: 8
: 1983
联系作者: 徐耀
收录类别:
影响因子: 2.261
摘要: A first-principles calculation based on the density functional theory(DFT) was used to investigate the energetic and electronic properties of Si-doped anatase TiO2 with various silicon concentrations. The theoretical calculations showed that with Si-doping the valence band and conduction band of TiO2 became hybrid ones with large dispersion, which could benefit the mobility of the photo-generated carriers. This result is inagreement with the experimental reports. At lower doping levels, the band gap of Si-doped anatase TiO2 decreases about0.2eV. With the increase of silicon concentration, the band gap increases gradually and larger formation energies are required during the synthesis of Si-doped TiO2.
英文摘要:
外单位作者单位:
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